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3-脲丙基三甲氧基硅烷的應(yīng)用

2025/2/12 9:14:48 作者:南星

基本信息

3-脲丙基三甲氧基硅烷,英文名:1-[3-(Trimethoxysilyl)propyl]urea,CAS號:23843-64-3,分子量:222.314,密度:1.1±0.1 g/cm3,沸點(diǎn):251.2±32.0°C at 760 mmHg,分子式:C7H18N2O4Si,熔點(diǎn):<-25°C,閃點(diǎn):105.7±25.1°C,為琥珀色透明液體。

3-脲丙基三甲氧基硅烷

應(yīng)用

1、衛(wèi)敏等人以3-脲丙基三甲氧基硅烷為偶聯(lián)劑,制備了一種新型極性脲丙基-C30(TPU-C30)反相色譜固定相。以不同極性、位置異構(gòu)、堿性化合物為溶質(zhì)探針,以傳統(tǒng)的C18色譜柱與C30色譜柱為參比,對制備的固定相的色譜性能進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明,TPU-C30固定相具有不同于傳統(tǒng)C18柱、C30柱的選擇性和更優(yōu)的擇形性,明顯改善了堿性物質(zhì)的峰形,其具有廣闊的應(yīng)用空間[1]。

2、李董艷在其論文中,基于表面印跡和抗原決定基印跡制備熒光增強(qiáng)型印跡材料及其應(yīng)用。該印跡材料是以二氧化硅包覆的量子點(diǎn)為載體和熒光源,苯基磷酸為模板,3-脲丙基三甲氧基硅烷為功能單體,正辛基三甲氧基硅烷為交聯(lián)劑,采用表面印跡和抗原決定基印跡法制得。根據(jù)印跡孔穴和模板分子的匹配作用,制備的印跡材料能識別模板分子苯基膦酸。苯基膦酸作為酪氨酸磷酸化多肽的“抗原決定基”,故該印跡材料也能夠識別目標(biāo)分子酪氨酸磷酸化多肽。在最優(yōu)的條件下,該熒光材料對酪氨酸磷酸化多肽的檢測范圍為0.5-35 uM,檢出限為0.37uM。該熒光材料對實(shí)際樣品進(jìn)行了分析,并取得了良好的效果[2]。

3、專利CN201511027128.8公開了一種用于低K介電材料的清洗處理的清洗液組合物,該清洗液組合物包含抑制劑,該抑制劑為硅烷偶聯(lián)劑,選自3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、3-異氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷中的一種或幾種。本發(fā)明通過加入硅烷偶聯(lián)劑類化合物,制備的清洗液組合物對于低K介電材料的腐蝕速率低于行業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)(4?/min),有效地克服了低K介電材料腐蝕問題[3]

參考文獻(xiàn)

[1]衛(wèi)敏,金小青,趙岳星. 一種新型極性脲丙基-C30固定相的制備和性能評價(jià)[J]. 色譜,2019,37(2):143-148. DOI:10.3724/SP.J.1123.2018.09020.

[2]李董艷. 基于量子點(diǎn)與碳點(diǎn)的新型熒光印跡材料的制備及其應(yīng)用[D]. 天津:南開大學(xué),2015. DOI:10.7666/d.D795727.

[3]上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司. 一種用于低K介電材料的清洗處理的清洗液組合物:CN201511027128.8[P]. 2016-05-04.

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