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ChemicalBook > 製品カタログ > 化學(xué)試薬 > 重水素および試薬 > 1,4-ジブロモ(2,3,5,6-2H4)ベンゼン

1,4-ジブロモ(2,3,5,6-2H4)ベンゼン

1,4-ジブロモ(2,3,5,6-2H4)ベンゼン price.
  • ￥37100 - ￥86600
  • 化學(xué)名: 1,4-ジブロモ(2,3,5,6-2H4)ベンゼン
  • 英語名: 1,4-DIBROMOBENZENE-D4
  • 別名:1,4-ジブロモ(2,3,5,6-2H4)ベンゼン;1,4-ジブロモベンゼン-D4;1,4‐ジブロモベンゼン‐D4;1,4-ジブロモベンゼン (D4, 98%)
  • CAS番號(hào): 4165-56-4
  • 分子式: C6Br2D4
  • 分子量: 239.93
  • EINECS:224-013-8
  • MDL Number:MFCD00045021
2物価
選択條件：
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 関東化學(xué)株式會(huì)社(KANTO)
パッケージ
  • 5g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01OCLDLM-341
  • 製品説明1,4-ジブロモベンゼン (D4, 98%)
  • 英語製品説明1,4-DIBROMOBENZENE (D4, 98%)
  • 包裝単位5g
  • 価格￥86600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化學(xué)株式會(huì)社(KANTO)
  • 製品番號(hào)49124-85
  • 製品説明１，４‐ジブロモベンゼン‐ｄ４ 99 atom% D
  • 英語製品説明1,4‐Dibromobenzene‐d4 99 atom% D
  • 包裝単位5g
  • 価格￥37100
  • 更新しました2024-07-01
  • 購入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01OCLDLM-341 1,4-ジブロモベンゼン (D4, 98%)
1,4-DIBROMOBENZENE (D4, 98%) 		5g ￥86600 2024-03-01 購入
関東化學(xué)株式會(huì)社(KANTO) 49124-85 １，４‐ジブロモベンゼン‐ｄ４ 99 atom% D
1,4‐Dibromobenzene‐d4 99 atom% D		 5g ￥37100 2024-07-01 購入

プロパティ

融點(diǎn)  :88-90 °C(lit.)
沸點(diǎn)  :219 °C
比重(密度)  :1.872 g/mL at 25 °C
閃點(diǎn)  :100℃
外見  :Solid
色 :White to off-white

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強(qiáng)い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露； 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
H410 長期的影響により水生生物に非常に強(qiáng)い毒性 水生環(huán)境有害性、慢性毒性 1 警告 GHS hazard pictograms P273, P391, P501
注意書き:
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271 屋外または換気の良い場(chǎng)所でのみ使用すること。
P273 環(huán)境への放出を避けること。
P302+P352 皮膚に付著した場(chǎng)合：多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場(chǎng)合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場(chǎng)合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明