背景及概述[1][2]
鈦酸鍶具有較高的介電常數(shù),是電子陶瓷粉體的重要原料,其制品具有介電耗損低、熱穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),因而在電子工業(yè)上被廣泛應(yīng)用。自然科學(xué)雜志對(duì)鈦酸鍶制備的報(bào)道很多,最典型的方法是2002年無(wú)機(jī)鹽工業(yè)的“鈦酸鍶粉體合成新方法研究”所提供的實(shí)驗(yàn)室方法,該方法以四氯化鈦和氯化鍶為原料、碳酸銨和氨水作為沉淀劑,使用化學(xué)共沉淀法合成鈦酸鍶粉體,研究了工藝條件對(duì)產(chǎn)品純度和鍶鈦比的影響。
反應(yīng)條件為四氯化鈦和氯化鍶摩爾比為 1.02,碳酸銨和氯化鍶摩爾比為1.40,反應(yīng)溫度為室溫,需要在900℃煅燒4小時(shí);該種方法的缺點(diǎn)是需要長(zhǎng)時(shí)間的煅燒,可能因部分鈦酸鍶的晶粒長(zhǎng)大而使粒度分布不均勻;此外有研究對(duì)鈦酸鍶地結(jié)晶機(jī)理進(jìn)行了較詳細(xì)的闡述,但其配制方法和合成鈦酸鍶的溶液在工業(yè)生產(chǎn)中可行性較差。世界上制備鈦酸鍶的方法有固相法、共沉淀法、溶膠-凝膠法、有機(jī)配合物前驅(qū)體法等工藝。
固相法工藝是將氧化鈦和碳酸鍶進(jìn)行高溫灼燒,由于灼燒后的鈦酸鍶粒度分布不易控制、純度低,從而極大地影響產(chǎn)品的性能。共沉淀法是液相化學(xué)反應(yīng)合成超細(xì)高純金屬氧化物顆粒最早采用的方法,沉淀法成本較低,但有如下問(wèn)題:沉淀物通常為膠狀物,水洗、過(guò)濾較困難;沉淀劑作為雜質(zhì)易混入,沉淀過(guò)程中各種成分可能發(fā)生偏析,水洗時(shí)部分沉淀物發(fā)生溶解。
此外由于大量金屬離子不容易發(fā)生沉淀反應(yīng),因此這種方法適用面也較窄。溶膠-凝膠 法一般采用有機(jī)金屬醇鹽為原料,通過(guò)水解、聚合、干燥等過(guò)程得到固體的前驅(qū)物,最后再經(jīng)適當(dāng)熱處理得到納米材料;由于采用金屬醇鹽為原料,使該方法成本較高,同時(shí)凝膠過(guò)程較慢,因此一般合成周期較長(zhǎng)。
此外,一些不容易通過(guò)水解聚合的金屬離子較難牢固地結(jié)合到凝膠網(wǎng)絡(luò)中,從而使得該方法制得的超細(xì)高純復(fù)合氧化物種類有限。因此,若使用目前的固相法、共沉淀法、溶膠-凝膠法、有機(jī)配合物前驅(qū)體法等工藝制備的鈦酸鍶均存在著不足和缺陷。
應(yīng)用[2][3]
鈦酸鍶是電子工業(yè)重要原料,用以自動(dòng)調(diào)節(jié)加熱元件和制造具有消磁作用的元器件。在陶瓷領(lǐng)域中用做制造陶瓷電容器、壓電陶瓷材料、陶瓷敏感元件、微波陶瓷元件。還可用做顏料、搪瓷、耐熱材料、絕緣材料。鈦酸鍶單晶可用做光學(xué)材料及人造寶石。
鈦酸鍶晶體具有高折射指數(shù)和高介電常數(shù),它的單晶體被用作光學(xué)材料及人造寶石。以鈦酸鍶為基材的低溫超導(dǎo)體也已制成。其應(yīng)用舉例如下:
1. 制備一種工藝簡(jiǎn)單,穩(wěn)定性好的鈦酸鍶晶體管。
采用替位摻雜法,使用激光分子束外延,脈沖激光沉積,磁控濺射,電子束蒸發(fā)或分子束外延等制膜方法,在單晶基片(如SrTiO3, YSZ,LaAlO3,Nb:SrTiO3等)上制備出n型鈦酸鍶SrAxTi1-xO3或 Sr1-xLaxTiO3薄膜材料,其中A是Nb或Sb;制備出p型鈦酸鍶SrBxTi1-xO3 薄膜材料,其中B是In或Mn。所有x的取值范圍為0.005-0.5。
把 一層p型鈦酸鍶和一層n型鈦酸鍶外延在一起,這兩層導(dǎo)電類型不同的鈦酸鍶薄膜在界面處就形成一個(gè)p-n結(jié),這個(gè)p-n結(jié)就構(gòu)成了鈦酸鍶晶體二極管;把一層p型鈦酸鍶和一層n型鈦酸鍶和另一層p型鈦 酸鍶外延在一起,這三層鈦酸鍶薄膜就形成一個(gè)p-n-p結(jié),這個(gè)p- n-p結(jié)就構(gòu)成了p-n-p鈦酸鍶三極管;把一層n型鈦酸鍶,一層p型 鈦酸鍶和另一層n型鈦酸鍶外延在一起,這三層鈦酸鍶薄膜就形成了 一個(gè)n-p-n結(jié),這個(gè)n-p-n結(jié)就構(gòu)成了n-p-n鈦酸鍶三極管。
所述的鈦酸鍶晶體管,采用全外延工藝,因此每層的層厚和載流子濃度都較鍺硅晶體管更易控制,且結(jié)面更銳,而鈦酸鍶熔點(diǎn)高,穩(wěn)定性好,故鈦酸鍶晶體管將成為一種廣泛應(yīng)用的電子器件,亦可發(fā)展成為鈦酸鍶集成電路。
2. 制備一種非晶鈦酸鍶薄膜器件的制備方法,
包括:在基底表面旋涂底電極溶液后退火,形成底電極;在所述底電極表面旋涂鈦酸鍶溶液后進(jìn)行烘烤,形成酸鍶薄膜;將所述鈦酸鍶薄膜進(jìn)行退火處理,形成非晶薄膜;在所述非晶薄膜表面進(jìn)行電子束蒸發(fā)濺射形成頂電極,得到非晶鈦酸鍶薄膜器件。
該非晶鈦酸鍶薄膜器件的的創(chuàng)新點(diǎn)在器件的主體氧化物薄膜層為非晶薄膜,并且制備方法工藝簡(jiǎn)單,制備過(guò)程中對(duì)溫度的要求較低,能夠進(jìn)行批量生產(chǎn),而且制備得到的鈦酸鍶薄膜器件的穩(wěn)定性好、耐疲勞能夠循環(huán)使用,開(kāi)關(guān)比大,400℃退火時(shí)開(kāi)關(guān)比達(dá)到103,應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。該非晶鈦酸鍶薄膜器件的結(jié)構(gòu)示意圖
制備[2]
1. 草酸沉淀法將高純四氯化鈦、氯化鍶、高純草酸配成一定濃度的溶液,然后氯化鍶和四氯化鈦按一定的配比制成鍶一鈦混合液,在60~70℃下緩慢地加入到草酸溶液中,反應(yīng)1h左右,得到草酸氧鈦鍶[SrTiO(C2O4)·4H2O]沉淀,經(jīng)洗滌、烘干、煅燒,制得鈦酸鍶粉體。
2. 以碳酸鍶和二氧化鈦為原料。將等物質(zhì)的量的碳酸鍶、二氧化鈦及其他添加劑進(jìn)行混合并研磨,擠壓成型,放入電爐中,于1100~1200℃煅燒2.5~3h,將煅燒物粉碎,再研磨酸洗、過(guò)濾洗滌、干燥,即得鈦酸鍶?;蛘咭月然J、四氯化鈦、草酸為原料,反應(yīng)得到白色沉淀,經(jīng)過(guò)濾,用去離子水洗滌至無(wú)氯離子,再用無(wú)水乙醇洗滌分散、脫水,于700℃干燥,經(jīng)800℃煅燒即可。
主要參考資料
[1] 戴瑞斌;王承珍;張兵;宋錫濱.制備納米級(jí)高純鈦酸鍶粉體的工藝.CN03138741.1,申請(qǐng)日20030630
[2] 湯卉;唐新桂;劉秋香;蔣艷平;張?zhí)旄?一種非晶鈦酸鍶薄膜器件及其制備方法.CN201711474152.5,申請(qǐng)日20171229
[3] 呂惠賓;戴守愚;陳凡;趙彤;陳正豪;周岳亮;王煥華;何萌;楊國(guó)楨.鈦酸鍶晶體管.CN00100366.6,申請(qǐng)日20000119