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三(二甲胺基)硅烷新聞專題

三(二甲胺基)硅烷的特性與危害
三(二甲胺基)硅烷的特性與危害
三(二甲胺基)硅烷可在電子工業(yè)中,作為氣相沉積CVD薄膜技術(shù)中的前驅(qū)物使用。
2024/3/27 10:34:52 閱讀量:277
三(二甲胺基)硅烷的制備
三(二甲胺基)硅烷的制備
相關(guān)的研究表明,三(二甲胺基)硅烷作為前驅(qū)體源不僅具有較好的穩(wěn)定性、較高的蒸汽壓,而且表現(xiàn)出了相當(dāng)高的反應(yīng)性,所以這種有機(jī)硅源成了目前ALD方法沉積SiO2研究的熱點(diǎn)。
2022/10/14 17:34:28 閱讀量:698